CVD系統
型號 :
NBD-O1200-XT22D2F
化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成塗層或納米材料的方法，是半導體工業中應用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大範圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料。
為此我們研發成套的CVD鍍膜系統，適用於各大高校材料實驗室、科研院所、環保科學等領域。
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產品型號 |
NBD-O1200-XT22 （爐管直徑50、60、80、100mm可選） |
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工作溫度 |
≤ 1150℃ |
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加熱區尺寸 |
200mm + 200mm （雙溫雙控） |
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升溫速率 |
≤ 20℃ / min |
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電氣規格 |
AC 220V 4KW |
◎ 通過 CE認證
◎ 廠牌 / NOBODY
